PLD Pulsed Laser Deposition System
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PLD Pulsed Laser Deposition System
The PLD-T is a versatile high vacuum thin film deposition platform that combines Pulsed Laser Deposition with Thermal Evaporation in a single system. It deposits a broad range of materials, including complex compounds and crystalline structures, onto substrates with minimal setup.
Pulsed Laser Deposition relies on efficient non-thermal ablation, which keeps the stoichiometry of the target material intact. With this technique, the system can deposit nitrides, oxides, superlattices, polymers, and composites.
Applications
- Pulsed Laser Deposition (PLD): Delivers precise, stoichiometric transfer of complex materials such as oxides, nitrides, polymers, and composites.
- Crystalline Thin Films: Supports the growth of superlattices and advanced crystalline structures for semiconductor and optoelectronic applications.
- Thermal Evaporation: Handles metal and dielectric thin film deposition from boat, basket, or coil evaporation sources.
- Scanning Electron Microscopy (SEM) and TEM Sample Preparation: Creates high-quality coatings on non-conductive specimens and support grids.
- Spectroscopic and Structural Studies: Produces uniform thin films well suited to EDS/WDS, EBSD, and optical characterization.
- Thin Film Research and Development: Serves microelectronics, nanotechnology, superconductor, and solar cell investigations.
- Plasma Cleaning and Substrate Preparation: Leaves surfaces free of contamination for accurate, reproducible thin film growth.
- Academic and Research Laboratories: Offers a flexible platform for teaching, advanced training, and multidisciplinary research projects.
Features and Advantages
- Target Manipulator: Adjustable rotation speed for precise positioning.
- Thermal Sources: Three thermal sources with a special feedthrough for enhanced functionality.
- Real-Time Thickness Measurement: A quartz crystal monitoring system with 1 nm precision for accurate readings.
- User-Friendly Interface: An intuitive touch screen for simple control of the coating process and fast data entry.
- Plasma Cleaning: Built-in plasma cleaning for optimal substrate preparation.
- Upgradable Software: Easy-to-use software that can be updated over the network for improved performance.
- Sample Handling: A rotary sample holder and electronic shutter for efficient sample management.
- Motorized Boat Selection: Motorized functionality for selecting and handling boat materials.
- Substrate Heating: A 500 °C substrate heater for controlled deposition processes.
- Warranty and Insurance: A two-year system warranty, plus worldwide public and product liability insurance coverage against property damage or personal injury caused by Vac Coat systems.
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Thermal Evaporation Sources (Boat/Basket/Coil)The Pulsed Laser Deposition System accommodates three independent, heat-resistant thermal evaporation sources, which can be configured as boats, baskets, or coils. These sources are built for efficient material evaporation without transferring contamination to other materials. Source holder length is adjustable from 5 to 10 cm to meet specific customer requirements. |
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Target ManipulatorThe PLD system includes a multi-target manipulator that holds three targets, each 2 cm in diameter. The targets are standard size, and every target manipulator is motorized, enabling precise target rotation and positioning throughout the deposition process. |
Intuitive Touch Screen Control with Vibrant Display
The PLD-T Pulsed Laser Deposition System features a user-friendly 7-inch color touch screen that makes control and monitoring simple. The screen supports fully automatic operation and effortless data entry, so even users with limited experience can run it confidently.
Vacuum levels, current status, and deposition information appear directly on the touch screen in both digital readouts and graphical curves. A history page also stores data from the last 300 coatings for later review and analysis. This capability improves efficiency and keeps the coating workflow smooth from start to finish.
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These specifications outline the key components and features of the Pulsed Laser Deposition and Thermal Evaporator System, highlighting its strengths in vacuum operation, power supply, gas flow control, data analysis, and ease of use.
Options and Accessories for PLD-T
Thermal Evaporation Sources
- Available in boat, basket, or coil configurations to match different deposition requirements.
Substrate Heater
- Heats up to 500 °C for precise substrate temperature control during deposition.
Evaporation Source Materials
- A variety of materials are compatible with the thermal evaporation sources, giving users a wide range of deposition options.
Quartz Crystal Sensors
- Essential for high-precision, real-time thickness monitoring.
Sealing Gaskets
- Designed for effective sealing to maintain airtight conditions throughout the deposition process.
These options and accessories extend the versatility and functionality of the PLD-T system, allowing tailored, efficient thin film deposition while maintaining high precision and control.
Specifications of Pulsed Laser Deposition & Thermal Evaporator System:
Vacuum System:
- High vacuum turbomolecular pump for efficient vacuum operation.
- Diaphragm backing pump to support the vacuum system.
Vacuum Measurement: Full range vacuum measuring gauge to accurately measure vacuum levels.
Real-time Thickness Measurement: Quartz crystal monitoring system with 1 nm precision for accurate measurement.
Power Supply: 5 KW high current power supply for effective operation.
Gas Flow Control: Precision Mass Flow meter (MFC) for precise control of gas flows.
Data Recording and Analysis: Capability to record and plot coating parameters graphs for detailed analysis.
Data Transfer: Ability to transfer curves and deposition process data to a PC via a USB port for further analysis and documentation.
Utilities: Power Requirements: 220V-240V, 50/60HZ, 16A.
Dimensions: Box Dimensions: 50 cm H x 60 cm W x 47 cm D.
Weight: Shipping Weight: 70 kg.
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